成人国产精品一区二区视频_欧美老熟妇喷水_四虎国产精品一区二区_中国china露脸自拍性hd 色就干_一区二区视频传媒有限公司_日日噜噜夜夜狠狠久久丁香五月_老师在办公室被躁在线观看

熱門搜索:掃描電鏡,電子顯微鏡,細(xì)胞成像分析
產(chǎn)品展示 / products 您的位置:網(wǎng)站首頁 > 產(chǎn)品展示 > > 原子層沉積 > P 系列原子層沉積多少錢
原子層沉積多少錢

原子層沉積多少錢

簡要描述:P 系列是 Forge Nano 針對(duì)工業(yè)包覆研發(fā)的粉末 ALD 負(fù)載系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn) kg 級(jí)粉末批量包覆,是工業(yè)生產(chǎn)前理想的研發(fā)工具。【原子層沉積多少錢】

產(chǎn)品型號(hào): P 系列

所屬分類:原子層沉積

更新時(shí)間:2024-12-26

廠商性質(zhì):其他

詳情介紹
品牌其他品牌產(chǎn)地進(jìn)口
產(chǎn)品新舊全新

P 系列粉末原子層沉積系統(tǒng)原子層沉積多少錢

forge-p系列.jpeg

粉末包覆可有效提升材料性能與使用壽命,如鋰電正極或負(fù)極材料,經(jīng)過表面包覆處理后在放電性能及循環(huán)使用壽命方面都有明顯提升,但目前工業(yè)的包覆手段以機(jī)械混合的干法為主,該方法包覆均勻性較差,性能提升有限。ALD 技術(shù)可實(shí)現(xiàn)高精度及均勻包覆,是理想的包覆手段。Forge Nano 針對(duì)粉末類材料比表面積大的特點(diǎn),采用流化床技術(shù)實(shí)現(xiàn)粉末材料的流化,從而保證前驅(qū)體與粉末實(shí)現(xiàn)充分的接觸。P 系列是 Forge Nano 針對(duì)工業(yè)包覆研發(fā)的粉末 ALD 負(fù)載系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn) kg 級(jí)粉末批量包覆,是工業(yè)生產(chǎn)前理想的研發(fā)工具。

 

產(chǎn)品規(guī)格原子層沉積多少錢

 

1. 前驅(qū)體通道:2-8

2. 腔室容量:0-600ml

3. 反應(yīng)器溫度:450℃

4. 最高工藝溫度:200℃

5. 振動(dòng)流化床反應(yīng)器

6. 模塊:流化輔助,質(zhì)譜,臭氧發(fā)生器,等離子體發(fā)生器

 

產(chǎn)品特點(diǎn)

 

P 系列是 Forge Nano 專為粉末 ALD 開發(fā)的研發(fā)級(jí)工具,可輕松實(shí)現(xiàn) kg 的粉末包覆。使用流化床技術(shù)可保證粉末在反應(yīng)器中的分散,有利于前驅(qū)體擴(kuò)散。

圖片5.png

流化輔助

粉末在長時(shí)間存放或流化不充分時(shí)容易出現(xiàn)團(tuán)聚,導(dǎo)致無法形成理想的流化態(tài)。因此利用流化輔助模塊,高剪切氣流以及振動(dòng)反應(yīng)器的設(shè)計(jì)可沖散團(tuán)聚顆粒,確保分散效果。

 

分區(qū)加熱

所有前驅(qū)體源均可獨(dú)立加熱,保證運(yùn)輸條件,這對(duì)于部分低蒸汽壓的前驅(qū)體以及敏感的基底材料非常重要。P 系列也擁有*的閥門控制系統(tǒng),可以實(shí)現(xiàn)多通道前驅(qū)體輸運(yùn)。

 

在線監(jiān)測(cè)

P 系列配置了氣體在線分析系統(tǒng),對(duì) ALD 工藝的改善有較大幫助,使用者可通過氣體成分判斷反應(yīng)的完成度。

 

forge-P2.jpeg

應(yīng)用

鋰電池:鋰電正極或負(fù)極材料的包覆可有效提升其放電性能及使用壽命。常見的 NCM 與磷酸鐵鋰,在表面包覆 Al2O3 等氧化物薄膜后,在經(jīng)過多次放電后,仍可保持較高的能量密度。

 

 

forge-P3.jpeg

 

3D 打?。?/strong>3D 打印粉末存在腐蝕及表面氧化的問題,會(huì)影響最終器件的性能。通過表面涂層改性,可有效延緩氧化及腐蝕。傳統(tǒng)的包覆方式是在器件表面進(jìn)行 ALD 沉積,但對(duì)于 3D 打印粉末,直接對(duì)原材料粉末改性無疑是更有效的手段。

 

forge-P4.jpeg


催化:催化反應(yīng)大多數(shù)是發(fā)生在材料表面的界面反應(yīng),因此對(duì)于催化劑材料進(jìn)行表面構(gòu)筑改性是有效的性能提升手段。利用 ALD 可以直接在粉末,纖維材料表面生長高活性納米涂層,另一種方法是利用模板法結(jié)合 ALD 在表面構(gòu)筑特定結(jié)構(gòu),暴露活性位點(diǎn)。此外,也可以在特定的顆粒表面進(jìn)行表面包覆,防止催化劑燒結(jié)團(tuán)聚。

 

forge-P5.jpeg

 

 

 

留言詢價(jià)

留言框

  • 產(chǎn)品:

  • 您的單位:

  • 您的姓名:

  • 聯(lián)系電話:

  • 常用郵箱:

  • 省份:

  • 詳細(xì)地址:

  • 補(bǔ)充說明:

  • 驗(yàn)證碼:

    請(qǐng)輸入計(jì)算結(jié)果(填寫阿拉伯?dāng)?shù)字),如:三加四=7
  • 聯(lián)系電話電話4008578882
  • 傳真傳真
  • 郵箱郵箱cici.yang@phenom-china.com
  • 地址公司地址上海市閔行區(qū)虹橋鎮(zhèn)申濱路88號(hào)上海虹橋麗寶廣場(chǎng)T5,705室
© 2024 版權(quán)所有:復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司   備案號(hào):滬ICP備12015467號(hào)-5   sitemap.xml   管理登陸   技術(shù)支持:制藥網(wǎng)       
  • 公眾號(hào)二維碼

聯(lián)